1 FOTODIODOS: Principio de funcionamiento, características y tecnologíaPedro Castrillo Romón Departamento de E. y Electrónica. Universidad de Valladolid
2 Necesidad de fotodetectoresReceptores: comunicación por fibra óptica mandos a distancia Lectores ópticos: CD, DVD códigos de barras Sensores: presencia, ángulo, composición química, ... Monitores de luz: control de láseres Cámaras: vídeo, visión nocturna REQUERIMIENTOS Rapidez Sensibilidad adecuada Linealidad Fiabilidad Pequeño tamaño Instrumentación sencilla Matrices 2D
3 Tipos de fotodetectoresdispositivos de vacío fotoeléctricos fotoconductores semiconductores TIPOS térmicos fotodiodos Térmicos: luz calor T para todas las muy lentos, muy poca sensibilidad Dispositivos de vacío (fotomultiplicadores): efecto fotoeléctrico enorme sensibilidad Vcc , caros, gran tamaño, difícil > 1 m Fotoconductores: luz n R baratos, pequeños, fácil de acondicionar lentos, poca sensibilidad
4 ¿ Por qué fotodiodos? Vph + - iph P N Células fotovoltaicasFotodiodos: luz n Iph y/o Vph Vph + - iph P N Como batería... Como detector: iph Células fotovoltaicas Fotodiodos i·v < 0 rápidos, sensibles, IR-UV, muy lineales, baratos, pequeños, fiables, muy fáciles de acondicionar, posible matrices, tecnología electrónica
5 Fotodiodos 1. Principio de funcionamiento Características2. Eficiencia y respuesta espectral 3. Características eléctricas 4. Relación señal-ruido 5. Respuesta en frecuencia 6. Diseño y fabricación Otros fotodiodos 7. Fotodiodos Schottky 8. Fotodiodos de avalancha 9. Fototransistores 10. Mejoras para ultra-alta frecuencia
6 Absorción banda a bandaFotocorriente en uniones PN Estructuras de fotodiodos 1. Principio de funcionamiento Absorción banda a banda Fotogeneración de portadores n Otros procesos de absorción: excitónica, por impurezas intrabanda, fonones ... Atenuación de la luz d/dx = - (x) = (0)·exp(-x) = coef. de absorción 1/ = long. de penetración
7 = cte (h - Eg)1/2 Coeficiente de absorción () (h)conservación de E + conservación de k semicond. directos semicond. indirectos rab() ·() · fv (E1) ·[1 - fc (E2)] 1 (h) semicond. directos = cte (h - Eg)1/2 r (h )2
8 Coeficiente de absorción10-2 1 102 Longitud de penetración (m) Semic. directos: borde de absorción abrupto Semic. indirectos: variación gradual de 1/() Importantes: Silicio y GaInAs (con a=a(InP))
9 Fotogeneración en una unión PNPopt (1-R) P(x) = Popt(1-R)e-x G(x) = ·(Popt(x)/ h)/A ZCE: G arrastre n : G difusión arrastre p : G difusión arrastre recomb. x I(V;) = I(V;0) - Iph
10 Características I(V) Modo Fotoconductivo Modo Fotovoltaicoi = i0(exp(V/nVT)-1) - iph (con VT = kBT y n =1-2 ) Modo Fotoconductivo Modo Fotovoltaico v=0 i = - iph Popt i=0 v vT·ln(iph/i0) Polarización inversa Fotoconductor I V =0 >0 i = - (i0 + iph)
11 Estructura de fotodiodo PNVbi - Vapl Estructura p+-n-n+ Difusión desde la zona n W [ ·(VR + Vbi )]½
12 Estructura de fotodiodo PIN(+) alta eficiencia (+) predominio del arrastre rapidez (–) Id ( W)
13 Fotodiodos de heterouniónAlGaAs/GaAs GaInAs/InP (+) « fuera de la ZCE (+) (iluminación por detrás) en el caso de que Eg > h (+) sólo arrastre rapidez (+) no recomb. superficial OJO: ajuste parámetros de red
14 Fotodiodos 1. Principio de funcionamiento Características Análisis de la eficiencia y de la responsividad Optimización de la respuesta espectral Ejemplos de respuesta espectral Otros parámetros relacionados 1. Principio de funcionamiento Características 2. Eficiencia y respuesta espectral 3. Características eléctricas 4. Relación señal-ruido 5. Respuesta en frecuencia 6. Diseño y fabricación Otros fotodiodos 7. Fotodiodos Schottky 8. Fotodiodos de avalancha 9. Fototransistores 10. Mejoras para ultra-alta frecuencia
15 Eficiencia cuántica y sensibilidad_________________________________________________ nº de fotones incidentes nº de pares e-h fotogenerados que contribuyen a la corriente = (1 - R)·[1- exp (-d)]· Sensibilidad o “responsividad” = fotocorriente / potencia óptica [A/W = · (m)/ 1.24 i ph = e··( P/ h ) [dB= 20 log [A/W _______ 1 [A/W
16 Análisis de la eficiencia cuánticadifusión en la zona n arrastre en la ZCE nph x-W
17 Análisis de la eficiencia cuántica (II)Optimización de para largas (PIN) (1 - e-W ) > 85% W 2/ PD de silicio: (m) Wmin(m) rojo m 5m IRED m 40m YAG 1.064m 2000m (Si hay reflexión basta con Wmin/2) W Para P+N : W( , VR)
18 Optimización de : capas antirreflejantes* Reflectividad: 1-R perturbación del emisor Pérdidas de retorno óptico: ORL(dB) = 10 log(Pin /Prefl) = -10 log R * Intercara semiconductor-aire: R = 31 % < 70% n(Si) = 3.5 n-1 n+1 2 Necesidad de capas antirreflejantes
19 Capas antirreflejantes* Interferencia destructiva: n2 d2 = m /4 con m=1, 3, 5,... * Óptimo para: n2 = n1 n3 d adecuado a Silicio Si3 N4 (n2 =1.95) R < 1% Opcional: inclinación de 6º evitar retorno a fibra
20 Optimización para cortasPD de silicio absorción cerca de la superficie 1/ (UV) 100 nm recomb. no radiativa exp(- xp) Solución: NA creciente hacia la superficie ( barrera de difusión) 1 2 3 3 2 1 PD de GaInAs/InP InP P GaInAs I InP N
21 Ejemplos de respuesta espectral · directos vs. indirectos límites cortas de interés: GaAs-IRED:0.9m Si visible: m Nd:YAG: m FO: 1.3, 1.55m GaInAs IR térmico: , m otros: InAs, HgCdTe ...
22 Respuesta angular rel( )A veces se representa: ( )·cos [ A·cm2 / W ] iph/ densidad de potencia óptica ; ya que Aef= A · cos
23 Características eléctricas Parámetros relevantes Circuito equivalente Relación señal-ruido Características eléctricas Parámetros relevantes intensidad voltaje Id 1/Rsh 1/Rs Corriente en oscuridad (Id) Id = Id-GR+Id-dif +Id-surf ; Id-GR A·W·ni /GR Id-dif A·ni2 , Id-surf A1/2 ·W ·ni /surf Id exp(-Eg/n KBT) T=25ºC Id(Si)×10 Id(Si)‹‹Id(Ge) Rsh=(dI/dV)-1|V=0 RshnKBT/qId CjA·[(VR+0.6)]-1/2 Rserie y Rsh parásitas RL (típ.) = 50 - 1 K Circuito equivalente parásita
24 Análisis del circuito equivalente: LinealidadPara Iph·Req
25 Relación señal-ruido Ruido “shot” : fotogeneración + fondo + oscuridadiNsh 2 = 2q·I·f Ruido térmico : iNth 2 = (4kT/Req)·f iN 2 = iNsh 2 + iNth 2 + iNd 2 + iNb 2 Relación señal ruido: SNRi = Iph /iN
26 Optimizar SNR: Req: RL Rsh Id: T f : detección síncrona
27 Respuesta temporal y respuesta en frecuencia Fenomenología Casos en que domina RC Casos en que domina -trans. Optimización Respuesta en frecuencia Respuesta temporal y respuesta en frecuencia tiempo de carga RC = RLC tiempo de tránsito trans = (W/ 2) / v componente de difusión 2 = RC2 + trans2 + dif2 tr (tiempo de subida 10% 90% ) = 2.2· (f3dB)=(100KHz)/2 f3dB = (2·)-1
28 Competencia con la difusión RL domina RC RL domina difusión VR W· difusión
29 Optimización de f3dB * = 1- exp(-W) W < vsat / (·f3dB)A < W / (2··RL·f3dB) A y * óptimos para: RC= trans = (22 ·f3dB)-1
30 Fabricación de PD de silicioEj: PD Epitaxial (Anillo de guarda p+) Capa pasiv. y antireflectante “Stopper” n+ Contacto frontal (Al) Dopado p del área activa Contacto posterior
31 Fabricación de PD de GaInAsPoca dependencia f3dB () 1para 0.92 1.65 m Interesantes: 1.3 y 1.55 m (RC)=trans y dif = 0 Estructuras Cparas Ifugas Id
32 Estructuras tipo mesa (cont.)Ataque húmedo y limpieza óxidos Pasivación: polyimida Vía de contacto (RIE)
33 Estructuras tipo mesa Substrato n+ Epitaxia “buffer layer”: SLcapa activa: GaInAs capa recubridora p+ Adelgazar substrato Contactos: Ni/AuGe/Au y Ti/Pt/Au Capa antirreflectante
34 Tecnología de hibridaciónDeposición y grabado de los pads de soldadura Contacto Tecnología flip-chip: C y L parásitas iluminación por detrás area libre
35 Fotodiodos 1. Principio de funcionamiento Características2. Eficiencia y respuesta espectral 3. Características eléctricas 4. Relación señal-ruido 5. Respuesta en frecuencia 6. Diseño y fabricación Otros fotodiodos 7. Fotodiodos Schottky 8. Fotodiodos de avalancha 9. Fototransistores 10. Mejoras para ultra-alta frecuencia
36 PD Schottky: principio de funcionamientoDiodo Shottky: unión metal-semiconductor rectificadora bajo dopado y/o Eg pequeño Id mayor y VF menor que en diodos P-N Mecanismos responsables de la fotocorriente: generación banda a banda h > Eg Fotoemisión de electrones h > qb ( MIR) Id ( ruido) pero alta velocidad (¡ record mundial ! : 60 GHz )
37 PD Schottky: estructurasIluminación por delante: No pérdidas por recombinación en la superficie () T() Capas AR/metal/semiconductor Iluminación por detrás (GaInAs /InP): capa metal gruesa espejo (espesor óptico x 2) Rs
38 Respuesta en frecuenciaPD Schottky: características Respuesta en frecuencia Respuesta espectral Respuesta temporal
39 Fotodiodos de avalancha Multiplicación por avalancha Características Estructuras Fotodiodos de avalancha Multiplicación por avalancha Coef. de ionización: e , h , h= h /e Conviene h>>1 o h<<1 Ganancia (M) para h<<1 M=exp( e W) e,h ()
40 Conveniencia de APD señal: Iph = M·Iph(M=1)ruido: iN,shot = M·iN,shot(M=1)·F1/2 F =
41 APDs de Silicio e >>h M=100-1000 Vop 100 voltsEstructuras SAM (Multiplicación y Absorción Separada)
42 APDs de GaInAs
43 Fototransistores C (B) E
44 Otros dispositivos: Fotodiodos en guía de ondasEstructura de guía Iluminación lateral + Integración con otros dispositivos + Disociación entre y posible mejora de ·f3dB (para iluminación por superficie ·f3dB 20 GHz)
45 Ejemplo de PD integrado en guía de ondaIntegración monolítica con guía de onda pasiva Acoplamiento de campo evanescente Optimización separada del acoplamiento fibra-chip = 1.55 m f3dB=45 GHz =0.22 A/W
46 Hemos visto ... interacción luz-semiconductores y heteroestructurasanálisis como dispositivo electrónico características como circuito respuestas en frecuencia: hasta 50 GHz tecnología Si y III - V´s cómo mejorar velocidad y conseguir ganancia Falta por ver ... circuitos, sistemas y aplicaciones